삼성전자 EUV 기반 7nm LPP 개발 완료, 성능 20% 향상 및 전력효율 50% 개선

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IT | 삼성전자 EUV 기반 7nm LPP 개발 완료, 성능 20% 향상 및 전력효율 50% 개선

권경욱 기자 1   0

삼성전자 파운드리 사업부는 7나노미터(nm) LPP(Low Power Plus) 공정 개발을 완료했다고 밝혔다. 


10월 17일(현지시각) 열린 삼성 테크 데이 2018(Samsung Tech Day 2018)에서 삼성전자 파운드리 사업부는 EUV(극자외선) 노광 기술을 적용한 파운드리 7나노 공정(7LPP) 개발을 완료하고 생산에 착수했다고 전했다.


밥 스티어 삼성전자 디바이스솔루션(DS·부품) 부문 미주총괄 시니어 디렉터는 “7LPP 공정은 삼성전자가 EUV 노광 기술을 적용하는 첫 번째 파운드리 공정으로 7나노 공정의 본격적인 상용화는 물론 3나노까지 이어지는 공정 미세화를 주도할 수 있는 기반을 확보했다”고 밝혔다. 




삼성전자가 공개한 내용에 따르면 7LPP 공정은 10LPE 대비 면적은 약 40% 축소, 성능은 약 20% 향상, 전력효율은 약 50% 개선할 수 있다. 또, EUV 노광 공정을 사용하지 않는 경우에 비해 총 마스크 수가 약 20% 줄어 고객들은 7LPP 공정 도입에 대한 설계 및 비용 부담을 줄일 수 있게 된다.




반도체 미세공정은 웨이퍼 위에 회로가 새겨진 마스크를 두고 특정 광원을 마스크에 투과시켜 제작하며 이를 노광 공정 또는 포토 공정 (포토 리소그래피, Photo Lithography)라 부른다. 제조공정이 미세화되면서 노광 공정을 수차례 반복해(멀티 패터닝) 미세한 회로 패턴을 구현해왔는데 최근 반도체 공정이 10나노 이하로 진입하면서 불화아르곤(ArF)을 기반으로 하는 기존 노광 공정은 한계에 이르렀다는 것이 중론이다.




EUV는 기존 불화아르곤보다 파장의 길이가 1/14 미만인 극자외선을 이용하는 노광 장비의 광원 기술이다. EUV는 기존보다 세밀한 반도체 회로 패턴을 구현할 수 있으며 복잡한 멀티 패터닝 공정을 줄여 반도체의 고성능을 구현하고 생산성을 확보할 수 있다.




한편 삼성전자는 이달 18일 독일 뮌헨에서 파운드리 포럼을 개최할 예정이며 이를 통해 7나노 공정에 대한 자세한 소개를 포함한 첨단 공정 로드맵을 발표 예정이다

 

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1 Comments
12 마린 2018.10.21 15:40  
삼성의 7나노가 새로운 모바일 프로세서 제조에 사용되겠군요 얼마나 많은 제품에 사용될지 궁금해지네요
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